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分散均质乳化反应釜

分散均质乳化反应釜

在高温、高压、真空环境下,实现物料的分散、乳化、均质、混合等工艺过程。可配备多种高效宏观搅拌器、高剪切均质乳化机以及可靠的真空密封系统和温控系统,多种传感检测系统能在实验室环境模拟工业化生产。

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  • 发货地:安徽 桐城市
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  • 供货总量: 999台
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  • 安徽 安庆
  • 高温高压反应装置,色谱仪,超临界流体反应装,高温高压炉体

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    安徽 安庆 桐城市 西渡街道肖玻路218号1幢3层
应用领域:化妆品物料类型:固-液适用物料:化妆品
动力类型:电动品牌:捷钛仪器型号:KT-JZRH
每次处理量范围:1000以上千克

分散均质乳化反应釜详细介绍

在真空或压力环境下,实现物料的分散、乳化、均质、混合等工艺过程。可配备多种高效宏观搅拌器、高剪切均质乳化机以及可靠的真空密封系统和温控系统,多种传感检测系统能在实验室环境模拟工业化生产

满足客户包括膏霜,乳液,啫喱,洗护用品等的研发及中试配方工艺等要求,为满足生产工艺的稳定及成熟性提供***保障。

通过把预处理好的水相和油相通过不同形式的添加进我司的10L-100L成套反应釜内,升温至80-90度左右进行混合,乳化,均质等工艺形成以水包油或者油包水的乳液,通过降温形成一定的粘度后有效均匀的混合辅料及温敏性的功能性产品,终形成具有一定粘度的霜乳体系的产品。

1.通过变频控制搅拌器和均质机的转速控制以及真空和温度的精准控制满足客户研发共一百多种工艺工况的研发及中试。

2、通过非标设计的高效的锚式螺带刮壁搅拌有效处理了在高粘度情况下混合分散等瓶颈,非标设计的K型齿乳化机满足客户的高粘度乳化要求。搅拌高满足处理30万CPS,均质高满足处理15万CPS。

3、研发产品的数据收集的方便性及准确性给生产设计上提供了***数据支持。

功能技术参数介绍:

产品:膏霜,乳液等日用化妆品

处 理 量:5L-100L/批

工作温度:-10℃ <150℃

工作压力:-0.09~+2 MPa

物料粘度:≤150000 CPs

安全设计:整体防爆

均质速度:0-3000rpm/min

均质速度可调节(变频)

软件实现工艺参数记录、保存、调用。

工艺要求:分散、均质、乳化


整套装置组成:

一、反应釜系统

二、乳化系统

三、搅拌系统

四、测温系统

五、电动升降系统

六、倒料系统

七、真空系统

八、电控系统

九:温控系统


技术数据

小允许搅拌量:5L-100L

小允许乳化量:5L(定制参数根据实际要求再作决策)

大允许工作量:80L

全容积:100L

设计温度:<150℃

主要接触物料材质:SS316L (釜体)SS316L

支架提升高度: ≤1000mm (按实际需求定制)

工作压力范围:-0.09~2 Mpa

釜体设计压力范围:-0.1~3 Mpa


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